特許

J-GLOBAL ID：200903087016157108

改善されたオルガノシリコンナノクラスター及びその製造方法

発明者： 三輪 崇夫 ,  鈴木 雅雄 ,  渡辺 明 ,  伊藤 攻
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-298187
公開番号（公開出願番号）：特開平11-130867
出願日： 1997年10月30日
公開日（公表日）： 1999年05月18日
要約：

【要約】【課題】スピンコートで高純度のシリコン薄膜の形成を可能とする。【解決手段】テトラハロゲン化シランと有機ハロゲン化物をアルカリ金属またはアルカリ土類金属存在下反応させさらにフッ酸で処理したことを特徴とするオルガノシリコンナノクラスター。

請求項（抜粋）：

テトラハロゲン化シランと有機ハロゲン化物をアルカリ金属またはアルカリ土類金属存在下反応させさらにフッ酸で処理したことを特徴とするオルガノシリコンナノクラスター。(ここでオルガノシリコンナノクラスターとは、有機溶剤に可溶で、該溶液のTaucプロットにより求めたバンドギャップが3eVから1.2eVである有機シリコン化合物である。)

IPC (4件)：

C08G 77/60 ,  H01L 21/208 ,  H01L 21/314 ,  C07F 7/02

FI (4件)：

C08G 77/60 ,  H01L 21/208 Z ,  H01L 21/314 A ,  C07F 7/02 Z