特許

J-GLOBAL ID：200903087017259885

荷電粒子ビーム露光装置

発明者： ▲濱▼口 新一
出願人/特許権者： 株式会社アドバンテスト
代理人 (1件)： 石田 敬 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-282962
公開番号（公開出願番号）：特開2000-114147
出願日： 1998年10月05日
公開日（公表日）： 2000年04月21日
要約：

【要約】【課題】 BAAの接地電極及びブランキング電極の電位が他の開口の電界に影響せずに開口部に強い電界を発生できる荷電粒子ビーム露光装置の実現。【解決手段】 電子銃9と、周囲に第1の電極52と第2の電極53を有する複数の開口31が配列され、第1及び第2の電極に印加する信号で各開口を通過するビームをオン・オフ制御可能なブランキング・アパーチャ・アレイ(BAA)30と、BAAを通過したビームを偏向する偏向手段14,16 と、BAAを通過したビームを試料100 上に収束する収束手段15と、露光パターンに応じて各開口の電極に印加する信号を制御する露光制御手段19,20 とを備える荷電粒子ビーム露光装置において、第1及び第2の電極52,53 は略同じ長さのL字形であり、各開口はその周囲が対応する第1及び第2の電極でほぼ囲まれている。

請求項（抜粋）：

荷電粒子ビームを生成する電子銃と、周囲に第1の電極と第2の電極を有する複数の開口が配列され、各開口の前記第1及び第2の電極に印加する信号で各開口を通過する前記荷電粒子ビームが試料上に照射されるかされないかが制御可能なブランキング・アパーチャ・アレイと、該ブランキング・アパーチャ・アレイを通過した前記荷電粒子ビームを偏向する偏向手段と、前記ブランキング・アパーチャ・アレイを通過した前記荷電粒子ビームを試料上に収束する収束手段と、露光パターンに応じて、前記ブランキング・アパーチャ・アレイの各開口の電極に印加する信号を制御する露光制御手段とを備える荷電粒子ビーム露光装置において、前記第1及び第2の電極は略同じ長さのL字形であり、各開口はその周囲が対応する前記第1及び第2の電極でほぼ囲まれていることを特徴とする荷電粒子ビーム露光装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 504 ,  H01J 37/147 ,  H01J 37/305

FI (4件)：

H01L 21/30 541 B ,  G03F 7/20 504 ,  H01J 37/147 C ,  H01J 37/305 B

Fターム (14件)：

2H097AA03 ,  2H097BB01 ,  2H097CA07 ,  2H097CA16 ,  5C033BB03 ,  5C033GG02 ,  5C034BB04 ,  5C034BB05 ,  5F056AA07 ,  5F056BA01 ,  5F056BC06 ,  5F056CB03 ,  5F056CB05 ,  5F056EA04