特許
J-GLOBAL ID：200903087020247561
光学素子の作製方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
久保 幸雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-000214
公開番号（公開出願番号）：特開平8-187791
出願日： 1995年01月05日
公開日（公表日）： 1996年07月23日
要約：
【要約】【目的】基板面内の位置による段差のバラツキをできるだけ小さくするとともに、素子形状の微細化を図ることを目的とする。【構成】基板10の上に、少なくとも一部が非感光性材料21からなる段数が2以上の階段状の原型層24を形成し、原型層23をエッチングマスクとする異方性エッチングによって、基板10の表層面を素子機能に応じた起伏面Sに加工する。
請求項（抜粋）：
基板の表面を覆う非感光性材料層の形成と、感光性材料を用いて前記非感光性材料層の一部を除去するパターニングとを繰り返すことによって、前記基板の上に段数が2以上の階段状の原型層を形成し、前記原型層をエッチングマスクとする異方性エッチングによって、前記基板の表層面を素子機能に応じた起伏面に加工することを特徴とする光学素子の作製方法。
IPC (2件)：
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