ポジ型感放射線性組成物およびこれを用いたレジストパターンの製造法

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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-106857
公開番号（公開出願番号）：特開2000-298346
出願日： 1999年04月14日
公開日（公表日）： 2000年10月24日
要約：

【要約】【課題】サブクォーターミクロンのパターン加工が可能な解像度を持ち、高感度なポジ型感放射線性組成物を得る。【解決手段】下記一般式(1)および(2)で示される構造単位を含む重合体および放射線の照射によって酸を発生する酸発生剤を含有し、該重合体中のAが酸の作用により分解してアルカリ可溶性基を生成する有機基であることを特徴とするポジ型感放射線性組成物およびこれを用いたレジストパターンの製造法。【化1】【化2】(Xはハロゲン原子またはシアノ基、Yは炭素数1〜4のアルキル基、ハロゲン原子またはシアノ基である。Aはシリル基を1つ以上有する有機基、Gは炭素数1〜10のハロアルキル基、ハロアリール基、ハロアラルキル基を表す。)

請求項（抜粋）：

下記一般式(1)および(2)で示される構造単位を含む重合体および放射線の照射によって酸を発生する酸発生剤を含有し、該重合体中のAが酸の作用により分解してアルカリ可溶性基を生成する有機基であることを特徴とするポジ型感放射線性組成物。【化1】【化2】(Xはハロゲン原子またはシアノ基、Yは炭素数1〜4のアルキル基、ハロゲン原子またはシアノ基である。Aはシリル基を1つ以上有する有機基、Gは炭素数1〜10のハロアルキル基、ハロアリール基、ハロアラルキル基を表す。)

IPC (3件)：

G03F 7/039 601 , G03F 7/075 511 , H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 7/039 601 , G03F 7/075 511 , H01L 21/30 502 R

Fターム (16件)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AB08 , 2H025AB16 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE10 , 2H025CB14 , 2H025CB15 , 2H025CB34 , 2H025CB41 , 2H025CB52 , 2H025EA04 , 2H025EA10 , 2H025FA03 , 2H025FA17

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