特許

J-GLOBAL ID：200903087056078154

ビアホール検査装置

発明者： 吉山 正一
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 石川 泰男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-165697
公開番号（公開出願番号）：特開平7-022483
出願日： 1993年07月05日
公開日（公表日）： 1995年01月24日
要約：

【要約】【目的】 非破壊で多層基板に形成されたビアホールの不良を迅速かつ正確に検査可能なビアホール検査装置を提供する。【構成】 絶縁層11と配線層12とを有する多層基板に形成されるビアホールの不良を検査するビアホール検査装置において、原検査光OLを出射する光源2と、原検査光を直線偏光である検査光Lに変換する偏光手段3と、偏光手段3と直交ニコルを形成するとともに、検査対象物6に照射された検査光Lであって正常に形成されたビアホール周辺の所定の厚さ範囲を有する絶縁層11を透過して配線層12により反射された反射光のうち、特定の偏光面を有する反射光のみを透過させる検光手段8と、検光手段8を透過した反射光を可視化するための表示手段9,10と、を備える。

請求項（抜粋）：

絶縁層(11)と配線層(12)とを有する多層基板に形成されるビアホールの不良を検査するビアホール検査装置において、原検査光を出射する光源(2)と、原検査光を直線偏光である検査光に変換する偏光手段(3)と、前記偏光手段(3)と直交ニコルを形成するとともに、検査対象物(6)に照射された前記検査光であって正常に形成された前記ビアホール周辺の所定の厚さ範囲を有する前記絶縁層(11)を透過して前記配線層(12)により反射された反射光のうち、特定の偏光面を有する反射光のみを透過させる検光手段(8)と、前記検光手段(8)を透過した反射光を可視化するための表示手段(9,10)と、を備えたことを特徴とするビアホール検査装置。