特許
J-GLOBAL ID：200903087084680196
マスター担体のクリーニング方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
柳田 征史 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-302236
公開番号（公開出願番号）：特開2003-085936
出願日： 2001年09月28日
公開日（公表日）： 2003年03月20日
要約：
【要約】【課題】 マスター担体への付着物をドライプロセスおよび非接触で再付着することなく除去して転写品質の高い磁気転写が行えるようにする。【解決手段】 磁気転写または光ディスク成形を行う前の磁気転写用または光ディスク用マスター担体2を減圧容器3に収容し、減圧手段4で容器3内を減圧し、ガス導入手段6により反応性ガスを容器3内に導入した状態で、放電手段5により電極52とマスター担体2間にプラズマ放電を発生させ、マスター担体2表面の付着物をプラズマエッチングを利用して燃焼除去する。
請求項（抜粋）：
磁気転写用マスター担体または光ディスク用マスター担体のクリーニング方法であって、前記マスター担体表面の付着物を、減圧反応性ガス雰囲気下のプラズマ放電を用いて燃焼除去することを特徴とするマスター担体のクリーニング方法。
IPC (3件)：
G11B 23/50
, G11B 5/86
, G11B 5/86 101
G11B 23/50 C
, G11B 5/86 C
, G11B 5/86 101 B
