特許
J-GLOBAL ID：200903087097702920
無機多孔質膜の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
長谷 照一 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-272111
公開番号（公開出願番号）：特開平6-198148
出願日： 1988年05月27日
公開日（公表日）： 1994年07月19日
要約：
【要約】【目的】ピンホール、クラック等が存在しない薄膜を有し、濾過精度、分離精度の高い無機多孔質膜を製造する。【構成】(1)多孔質支持体の薄膜が付着する層の平均細孔径が同薄膜の平均細孔径の1〜200倍、(2)多孔質支持体の薄膜が付着する層の最大気孔径が同薄膜の平均細孔径の5〜250倍、(3)薄膜の膜厚が多孔質支持体の薄膜が付着する層の最大気孔径より大、という特性を有する無機多孔質膜の製造方法であり、前記多孔質支持体として、前記薄膜の予め設定された特性に対応する前記特性を備えた多孔質支持体を採用すること。
請求項（抜粋）：
1または複数の多孔質層からなる多孔質支持体の少なくとも一側に、無機質微粒子からなる担持液を付与して薄層を形成し、同薄層を前記多孔質支持体と一体に乾燥して焼成し、前記多孔質支持体の一側面に同支持体の平均細孔径より小さい平均細孔径を有する薄膜を一体的に備え、下記の特性(1)多孔質支持体の薄膜が付着する層の平均細孔径が同薄膜の平均細孔径の1〜200倍(2)多孔質支持体の薄膜が付着する層の最大気孔径が同薄膜の平均細孔径の5〜250倍(3)薄膜の膜厚が多孔質支持体の薄膜が付着する層の最大気孔径より大を有する無機多孔質膜の製造方法であり、前記多孔質支持体として、前記薄膜の予め設定された特性に対応する前記特性を備えた多孔質支持体を採用することを特徴とする無機多孔質膜の製造方法。
IPC (4件)：
B01D 71/02
, B01D 71/02 500
, B01D 39/20
, C04B 38/00 303
