特許

J-GLOBAL ID：200903087113442500

常圧プラズマ処理装置

発明者： 屋良 卓也
出願人/特許権者： 積水化学工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-126251
公開番号（公開出願番号）：特開2002-320845
出願日： 2001年04月24日
公開日（公表日）： 2002年11月05日
要約：

【要約】【課題】 常圧プラズマ処理装置において、簡易な構成で、どのような形状の基材にも対応でき、さらに処理の均一性に優れた多機能常圧プラズマ処理装置の提供。【解決手段】 対向する一対の上部電極と下部電極と、当該一対の電極間にパルス化された電界を印加する電源からなる常圧プラズマ処理装置であって、対向する一対の電極の少なくとも一方の対向面が固体誘電体で被覆されており、上部電極が下部電極よりも小型の電極であり、下部電極が大判平板電極であることを特徴とする常圧プラズマ処理装置。

請求項（抜粋）：

対向する一対の上部電極と下部電極と、当該一対の電極間にパルス化された電界を印加する電源からなる常圧プラズマ処理装置であって、対向する一対の電極の少なくとも一方の対向面が固体誘電体で被覆されており、上部電極が下部電極よりも小型の電極であり、下部電極が大判平板電極であることを特徴とする常圧プラズマ処理装置。

IPC (4件)：

B01J 19/08 ,  C23C 16/517 ,  C23F 4/00 ,  H05H 1/46

FI (4件)：

B01J 19/08 H ,  C23C 16/517 ,  C23F 4/00 A ,  H05H 1/46 M

Fターム (42件)：

4G075AA24 ,  4G075AA30 ,  4G075BA05 ,  4G075BC01 ,  4G075BC06 ,  4G075BC10 ,  4G075CA14 ,  4G075CA16 ,  4G075CA47 ,  4G075DA02 ,  4G075EB42 ,  4G075EC21 ,  4G075ED04 ,  4G075ED13 ,  4G075ED20 ,  4G075EE02 ,  4G075FB02 ,  4G075FB12 ,  4G075FC15 ,  4K030AA02 ,  4K030AA05 ,  4K030AA11 ,  4K030BA44 ,  4K030BA45 ,  4K030BA46 ,  4K030DA02 ,  4K030FA03 ,  4K030GA02 ,  4K030JA09 ,  4K030KA15 ,  4K030KA16 ,  4K030KA30 ,  4K057DA16 ,  4K057DB01 ,  4K057DD01 ,  4K057DD10 ,  4K057DE06 ,  4K057DE07 ,  4K057DE08 ,  4K057DE20 ,  4K057DM02 ,  4K057DM06