特許

J-GLOBAL ID：200903087118625920

メイクアップ除去料

発明者： 森 俊樹
出願人/特許権者： 第一工業製薬株式会社
代理人 (1件)： 朝日奈 宗太 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-040362
公開番号（公開出願番号）：特開2003-238355
出願日： 2002年02月18日
公開日（公表日）： 2003年08月27日
要約：

【要約】【課題】 メイク汚れおよび皮脂汚れを取り除くメイクアップ除去料において、界面活性剤の配合量を低減し、かつ充分なクレンジング力を有するメイクアップ除去料を提供する。【解決手段】 メイクアップ除去料の成分として、ポリビニルピロリドンおよび/またはポリ(ビニルピロリドン/酢酸ビニル)共重合体を0.1〜10重量%、エタノール、多価アルコールおよびグリコールエーテルからなる群から選択された一種以上の化合物を1〜50重量%、ならびに親水性非イオン界面活性剤、陰イオン性界面活性剤および両性界面活性剤からなる群から選択された一種以上の化合物を1〜25重量%含有させる。

請求項（抜粋）：

ポリビニルピロリドンおよび/またはポリ(ビニルピロリドン/酢酸ビニル)共重合体を0.1〜10重量%、エタノール、多価アルコールおよびグリコールエーテルからなる群から選択された一種以上の化合物を1〜50重量%、ならびに親水性非イオン界面活性剤、陰イオン性界面活性剤および両性界面活性剤からなる群から選択された一種以上の化合物を1〜25重量%含有することを特徴とするメイクアップ除去料。

Fターム (21件)：

4C083AC101 ,  4C083AC102 ,  4C083AC111 ,  4C083AC122 ,  4C083AC181 ,  4C083AC182 ,  4C083AC422 ,  4C083AC442 ,  4C083AC662 ,  4C083AC692 ,  4C083AC792 ,  4C083AD071 ,  4C083AD072 ,  4C083AD091 ,  4C083AD092 ,  4C083AD222 ,  4C083BB04 ,  4C083BB05 ,  4C083BB07 ,  4C083CC22 ,  4C083EE10