特許
J-GLOBAL ID:200903087132529268

純水製造方法および装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 柳原 成
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-185336
公開番号(公開出願番号):特開平7-039870
出願日: 1993年07月27日
公開日(公表日): 1995年02月10日
要約:
【要約】【目的】 工業用水と半導体製造排水の混合原水から純水を製造する際、フッ化カルシウム等の不溶性塩の生成によるスケール化を防止し、膜分離装置を使用する場合、目詰まりによる処理性能および処理水質の低下を防止する。【構成】 工業用水を軟化装置3において軟化し、脱炭酸装置4で脱炭酸したのち、混合水槽15で半導体製造排水と混合する。混合原水は必要により生物濾過装置5、UF膜分離装置7で前処理したのち、RO膜分離装置9、10、イオン交換装置等において脱イオンし純水を製造する。
請求項(抜粋):
工業用水と半導体製造排水を混合し、混合原水を脱イオンして純水を製造する方法において、工業用水を軟化したのち半導体製造排水を混合し、混合原水を脱イオンすることを特徴とする純水製造方法。
IPC (2件):
C02F 1/42 ,  C02F 1/44

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