特許

J-GLOBAL ID：200903087139919584

グレイスケールマスク作製法とそれを用いた3次元微細加工方法

発明者： 松本 佳宣
出願人/特許権者： 学校法人慶應義塾
代理人 (1件)： 韮澤 弘 (外7名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-201852
公開番号（公開出願番号）：特開2003-015275
出願日： 2001年07月03日
公開日（公表日）： 2003年01月15日
要約：

【要約】【課題】 PC用CADソフトとプリンタを用いてグレイスケールマスクを作製する方法と、そのマスクと感光性ガラスとを用いて3次元微細加工を行う方法。【解決手段】 インクジェットプリンター等を用いて、黒画素の粗密で表現された濃淡パターンとして透明シート等上に原画を印刷し、その原画を縮小投影光学系を用いて、原画の各画素の像がぼけて隣接する画素の像と平均化されて解像できない倍率で写真感材に複写することにより作製されたグレイスケールマスク20を、露光量に応じてエッチング量が異なる感光性ガラス21に接触させ、グレイスケールマスク20を介して感光性ガラス21が感度を有する光23を照射し、その後、感光性ガラス21を所定のエッチング溶液でエッチングすることにより感光性ガラス21の表面に3次元微細加工を施す。

請求項（抜粋）：

3次元微細加工用のグレイスケールマスクにおいて、インクジェットプリンターあるいはレーザプリンター等を用いて、黒又は不透明画素の粗密で表現された濃淡パターンとして透明シートあるいは白色シート上に原画を印刷し、その出力された黒又は不透明画素の粗密で表現された原画を縮小投影光学系を用いて、原画の各画素の像がぼけて隣接する画素の像と平均化されて解像できない倍率で写真感材に複写することにより作製することを特徴とするグレイスケールマスク作製法。

IPC (5件)：

G03F 1/08 ,  B81C 1/00 ,  G02B 3/00 ,  G02B 5/00 ,  H01L 21/027

FI (7件)：

G03F 1/08 L ,  G03F 1/08 D ,  B81C 1/00 ,  G02B 3/00 A ,  G02B 5/00 A ,  H01L 21/30 502 P ,  H01L 21/30 505

Fターム (9件)：

2H042AA11 ,  2H042AA14 ,  2H095BB02 ,  2H095BB27 ,  2H095BB28 ,  2H095BB36 ,  5F046AA25 ,  5F046BA01 ,  5F046CB17