特許
J-GLOBAL ID：200903087146132433
基板処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
吉田 茂明
, 吉竹 英俊
, 有田 貴弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-369293
公開番号（公開出願番号）：特開2007-173531
出願日： 2005年12月22日
公開日（公表日）： 2007年07月05日
要約：
【課題】検出精度を向上させつつ、誤検出を防止する。【解決手段】受光部46の受光領域に向けて、投光部45から矩形のレーザ光Lを照射する。ステージ3に遮断板47を取り付け、受光部46にレーザ光Lが入射しない領域(遮蔽領域E1)を形成する。また、遮蔽領域E1に隣接して、レーザ光Lが遮断板47によって遮蔽されない領域(検査領域E2)を形成する。レーザ光が遮蔽領域E1を通過する状態から検査を開始し、受光部46に入射するレーザ光の受光量に基づいて、所定の時間内に受光量が所定量以上減少するか否かを検出することにより、物体を検出する。【選択図】図5
請求項（抜粋）：
基板に所定の処理液を塗布する基板処理装置であって、
基板を保持する保持手段と、
前記保持手段に保持された前記基板に所定の処理液を吐出するスリットノズルと、
受光領域に入射するレーザ光の受光量を出力する受光手段と、
前記受光手段の前記受光領域に向けてレーザ光を照射する投光手段と、
前記投光手段と前記受光手段との位置関係を実質的に保持しつつ、前記投光手段と前記受光手段とを移動させる移動手段と、
所定時間の間に前記受光手段から出力された受光量に基づいて、前記所定時間の間の受光量の減少状態を監視しつつ、検査領域内に存在する処理不良の原因となりうる物体を検出する第1検出手段と、
前記検査領域に隣接する遮蔽領域において、前記受光領域に入射するレーザ光を遮蔽する遮蔽手段と、
を備え、
前記検査領域と前記遮蔽領域との境界は、前記保持手段に保持された前記基板の端部位置に応じて決定されており、
前記移動手段は、前記受光領域が前記遮蔽領域に含まれるように配置されている前記受光手段を、前記受光領域が前記検査領域に含まれるように移動させることを特徴とする基板処理装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, B05C 5/02
, B05C 11/10
H01L21/30 564Z
, B05C5/02
, B05C11/10
4F041AA05
, 4F041AA06
, 4F041AB01
, 4F041BA12
, 4F041CA02
, 4F041CA21
, 4F042AA06
, 4F042AA07
, 4F042BA11
, 4F042BA27
, 4F042DH09
, 5F046JA02
, 5F046JA22
, 5F046JA27
