特許
J-GLOBAL ID：200903087156177877
露光方法及び装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-103607
公開番号（公開出願番号）：特開平5-283310
出願日： 1992年03月30日
公開日（公表日）： 1993年10月29日
要約：
【要約】【目的】 感光基板の露光面に凹凸等が存在してもその露光面の真の平均的な面を投影光学系の最良結像面に平行に設定する。【構成】 平面度の良好なウエハ4Bに対してレベリング光学系の検出光L2を照射して求めた平均的な面を最良結像面P1に平行にした状態で、焦点検出光学系の検出光L3をウエハ4Bの複数の点に照射して最良結像面P1からの位置ずれ量を求める。次に、処理対象のウエハ4Cに対してもレベリング光学系を用いて検出した平均的な面を最良結像面P1に平行に設定し、焦点検出光学系を用いて求めた最良結像面P1からの位置ずれ量から最初に求めた位置ずれ量を差し引いた量をレベリング機構への補正量とする。
請求項（抜粋）：
マスクパターンの像を投影光学系を介して該投影光学系の光軸にほぼ垂直な面内で移動自在なステージ上に載置された基板の露光面に転写する露光方法において、前記投影光学系の露光領域内の所定の計測点に対応する前記基板の露光面の計測点の前記投影光学系の結像面からのずれを検出する焦点検出光学系と、前記基板の露光面に光束を照射することにより、前記露光面の平均的な面の前記投影光学系の結像面からの傾斜状態を検出するレベリング光学系と、前記基板の露光面の傾斜状態を所定の状態に設定するレベリングステージとを用い、予め平面度の良好な基板の露光面に対して前記レベリング光学系で傾斜状態を検出することにより、前記平面度の良好な基板の露光面を前記レベリングステージを介して前記投影光学系の結像面に平行に設定する工程と、前記ステージを前記投影光学系の光軸にほぼ垂直な面内で移動させつつ、前記焦点検出光学系を用いて前記平面度の良好な基板の露光面の複数の計測点における前記投影光学系の結像面からのずれ量を検出し、該検出された複数のずれ量から前記平面度の良好な基板の傾斜量を算出して記憶する工程と、処理対象とする基板の露光面に対して前記レベリング光学系で検出された平均的な面の傾斜状態を前記レベリングステージを介して前記投影光学系の結像面に平行に設定する工程と、前記ステージを前記投影光学系の光軸に垂直な面内で移動させつつ、前記焦点検出光学系を用いて前記処理対象とする基板の露光面の複数の計測点における前記投影光学系の結像面からのずれ量を検出し、該検出された複数のずれ量から前記処理対象とする基板の傾斜量を算出する工程と、前記平面度の良好な基板の傾斜量と前記処理対象とする基板の傾斜量との差の傾斜量を前記レベリング光学系により検出された前記処理対象の基板の露光面の平均的な面の傾斜状態にオフセットとして加算して得られた傾斜状態に基づいて、前記レベリングステージを介して前記処理対象とする基板の露光面を前記投影光学系の結像面に平行にする工程と、前記投影光学系を介して前記マスクパターンの像を前記処理対象とする基板の露光面に転写する工程とを有する事を特徴とする露光方法。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
