特許

J-GLOBAL ID：200903087163235890

近接場光プローブ及びその製造方法

発明者： 大塚 正也 ,  藤井 俊茂
出願人/特許権者： 株式会社リコー
代理人 (1件)： 小島 俊郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-053399
公開番号（公開出願番号）：特開2002-257704
出願日： 2001年02月28日
公開日（公表日）： 2002年09月11日
要約：

【要約】【課題】 本発明は製造容易な構造の近接場光プローブ及びその製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】 微小開口5からなる、本発明の近接場光プローブにおいて、2層以上で且つ、それぞれ異なる無機材料からなる膜3、4が遮光膜として最表面に成膜してあり且つこの2層以上の無機材料からなる膜3、4は、光または熱により光学的な透過率が高くなることを特徴とする。

請求項（抜粋）：

複数の異なる無機材料からなり、光の強度により光透過率が変化する遮光膜を、突起部を有する光の出射部の全表面に形成したことを特徴とする近接場光プローブ。

IPC (4件)：

G01N 13/14 ,  G11B 7/135 ,  G11B 7/22 ,  G12B 21/06

FI (4件)：

G01N 13/14 B ,  G11B 7/135 A ,  G11B 7/22 ,  G12B 1/00 601 C

Fターム (4件)：

5D119AA22 ,  5D119AA38 ,  5D119JA34 ,  5D119NA05