特許

J-GLOBAL ID：200903087182573462

L字形ガス噴射装置及びその作動方法

発明者： キアン・ウー・クアン ,  チヤン・チャン ,  ウォン・ハイ・ロン ,  ソウ・ポック・チュア
出願人/特許権者： チャータード・セミコンダクター・マニュファクチャリング・インコーポレイテッド
代理人 (1件)： 社本 一夫 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-190794
公開番号（公開出願番号）：特開2002-075976
出願日： 2001年06月25日
公開日（公表日）： 2002年03月15日
要約：

【要約】【課題】 1つ又は2つ以上のTEOS層を堆積させる新規な装置を提供すること。【解決手段】 本発明の装置は、L字形のTEOSガス噴射装置を提供し、該TEOSガス噴射装置には、その周縁の周りに設けられ且つL字形のガス噴射装置の表面に沿って長手方向に伸びる、多数の開口部が形成されている。L字形のガス噴射装置の長手方向は、TEOS反応チャンバの垂直軸線に対し平行に取り付けられている。このため、本発明の装置は、TEOSガスを反応管の垂直方向に均一に分配することを許容し、これにより、垂直な反応管内の異なる垂直高さに積層されたウェハのプロセス状態の相違を解消する。

請求項（抜粋）：

プロセスガスを円筒状プロセスチャンバ内に噴射するL字形ガス噴射装置であって、前記円筒状のプロセスチャンバが、側壁と、底部と、中心軸線とを有し、該中心軸線が、前記円筒状プロセスチャンバを貫通するとき、中心軸線の入口点と出口点との間を伸びる、前記プロセスチャンバ内である長さを有する、L字形ガス噴射装置において、該L字形ガス噴射装置は、中心軸線と、ある長さと、表面と、ある直径とを有する第一の円筒状部分と、中心軸線と、ある長さと、表面と、ある直径とを有する第二の円筒状部分とを具備し、前記第一の円筒状部分の前記中心軸線及び第二の円筒状部分の前記中心軸線が1つの面に属し且つ第一の角度にて交差し、前記第一の円筒状部分の前記長さが、測定可能な程度だけ前記第二の円筒状部分の前記長さよりも短く、前記第一の円筒状部分が前記プロセスチャンバの前記側壁を貫通して第二の角度にて突出し、前記第二の円筒状部分の前記中心軸線が前記プロセスチャンバの前記中心軸線と平行であり、且つ、前記第二の円筒状部分の前記表面に多数の開口部が形成されることを特徴とする、L字形ガス噴射装置。

IPC (2件)：

H01L 21/31 ,  C23C 16/455

FI (2件)：

H01L 21/31 B ,  C23C 16/455

Fターム (20件)：

4K030AA06 ,  4K030AA14 ,  4K030AA18 ,  4K030BA29 ,  4K030BA44 ,  4K030CA04 ,  4K030EA03 ,  4K030FA10 ,  4K030KA04 ,  4K030LA15 ,  5F045AA06 ,  5F045AB32 ,  5F045AC07 ,  5F045AC11 ,  5F045BB02 ,  5F045DP15 ,  5F045DQ05 ,  5F045EC05 ,  5F045EF03 ,  5F045EF08