特許

J-GLOBAL ID：200903087184044858

ポジ型感光性組成物

発明者： 矢作 公
出願人/特許権者： 住友化学工業株式会社
代理人 (3件)： 久保山 隆 ,  中山 亨 ,  榎本 雅之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-045527
公開番号（公開出願番号）：特開2004-258070
出願日： 2003年02月24日
公開日（公表日）： 2004年09月16日
要約：

【課題】熱硬化してパターン形成する際にパターンの変形が少ない絶縁膜を与えるポジ型感光性組成物を提供する。【解決手段】[1]キノンジアジド化合物およびノボラック樹脂を含有してなるポジ型フォトレジスト組成物と、酸の作用によりノボラック樹脂と反応する化合物と、熱により酸を発生する化合物とを含有してなることを特徴とするポジ型感光性組成物。[2]基板上に[1]記載のポジ型感光性組成物を塗布して露光し、露光部を現像した後、未露光部を熱により硬化させることを特徴とする半導体用部材またはディスプレイ用部材の製造方法。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

キノンジアジド化合物およびノボラック樹脂を含有してなるポジ型フォトレジスト組成物と、酸の作用によりノボラック樹脂と反応する化合物と、熱により酸を発生する化合物とを含有してなることを特徴とするポジ型感光性組成物。

IPC (4件)：

G03F7/004 ,  G03F7/022 ,  G03F7/40 ,  H01L21/027

FI (4件)：

G03F7/004 501 ,  G03F7/022 ,  G03F7/40 501 ,  H01L21/30 502R

Fターム (16件)：

2H025AB16 ,  2H025AC01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE01 ,  2H025CB29 ,  2H025CC17 ,  2H025CC20 ,  2H025FA03 ,  2H025FA17 ,  2H025FA29 ,  2H096AA25 ,  2H096BA10 ,  2H096BA20 ,  2H096EA02 ,  2H096GA08 ,  2H096HA01