特許
J-GLOBAL ID:200903087190316851

6-ヒドロキシ-2-ナフトエ酸の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 久保山 隆 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-318966
公開番号(公開出願番号):特開2002-128725
出願日: 2000年10月19日
公開日(公表日): 2002年05月09日
要約:
【要約】【課題】2-ナフトールと二酸化炭素とを反応させて溶媒を使用することなく、高収率で6-ヒドロキシ-2-ナフトエ酸を製造する方法を提供する。【解決手段】2-ナフトールのセシウム塩又はルビジウム塩と、二酸化炭素とを、二酸化炭素が超臨界状態または亜臨界状態になる条件下で反応させる6-ヒドロキシ-2-ナフトエ酸の製造方法。
請求項(抜粋):
2-ナフトールのセシウム塩またはルビジウム塩と、二酸化炭素とを、二酸化炭素が超臨界状態または亜臨界状態になる条件下で反応させることを特徴とする6-ヒドロキシ-2-ナフトエ酸の製造方法。
IPC (4件):
C07C 51/15 ,  B01J 27/232 ,  C07C 65/11 ,  C07B 61/00 300
FI (4件):
C07C 51/15 ,  B01J 27/232 X ,  C07C 65/11 ,  C07B 61/00 300
Fターム (12件):
4H006AA02 ,  4H006AC46 ,  4H006BA02 ,  4H006BA32 ,  4H006BC10 ,  4H006BE10 ,  4H006BE41 ,  4H006BJ50 ,  4H006BN30 ,  4H006BS30 ,  4H039CA65 ,  4H039CF90

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