特許

J-GLOBAL ID：200903087220731239

光学基材、光学素子、これを用いた光学系及び光リソグラフィー装置、及び光学基材の検査方法

発明者： 塩澤 正樹
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-172377
公開番号（公開出願番号）：特開2001-002497
出願日： 1999年06月18日
公開日（公表日）： 2001年01月09日
要約：

【要約】【課題】 光学基材に対してF2レーザを長時間照射し続けていくと、著しい透過損失を起こしてしまうという致命的な問題が生じた。【解決手段】 フッ化カルシウムを主成分とする結晶材料からなり、エネルギー密度が100mJ/(cm2・パルス)のF2レーザを106パルス照射したときに表面に損傷が観察されないことを特徴とする光学基材を提供する。

請求項（抜粋）：

フッ化カルシウムを主成分とする結晶材料からなり、エネルギー密度が100mJ/(cm2・パルス)のF2レーザを106パルス照射したときに表面に損傷が観察されないことを特徴とする光学基材。

IPC (5件)：

C30B 29/12 ,  G02B 1/02 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/027 ,  H01S 3/02

FI (5件)：

C30B 29/12 ,  G02B 1/02 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 515 D ,  H01S 3/02

Fターム (24件)：

4G077AA02 ,  4G077AB01 ,  4G077AB10 ,  4G077BE02 ,  4G077CD01 ,  4G077CF00 ,  4G077FJ06 ,  4G077GA06 ,  4G077HA01 ,  4G077HA02 ,  5F046AA22 ,  5F046BA03 ,  5F046CA03 ,  5F046CA04 ,  5F046CA08 ,  5F046CB02 ,  5F046CB12 ,  5F046CB25 ,  5F072AA06 ,  5F072JJ03 ,  5F072KK30 ,  5F072RR05 ,  5F072SS06 ,  5F072YY09