特許

J-GLOBAL ID：200903087234823543

処理システム及び処理方法

発明者： 上田 一成 ,  稲田 博一
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 萩原 康司 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-350144
公開番号（公開出願番号）：特開2001-168167
出願日： 1999年12月09日
公開日（公表日）： 2001年06月22日
要約：

【要約】【課題】 各処理装置への基板の搬入出や各処理装置間での基板の搬送を効率よく行い,処理時間の短縮化を図る。【解決手段】 垂直方向に基板Wを搬送する垂直搬送装置7と,垂直搬送装置7の周りにおいて円周方向に基板Wを搬送する円周搬送装置10,11,12,13を備え,基板Wに対して所定の処理を施すための処理装置20,21,22,23が円周搬送装置10,11,12,13によって搬送される円周方向に沿って配置されている。

請求項（抜粋）：

垂直方向に基板を搬送する垂直搬送装置と,垂直搬送装置の周りにおいて円周方向に基板を搬送する円周搬送装置を備え,基板に対して所定の処理を施すための処理装置が前記円周搬送装置によって搬送される円周方向に沿って配置されていることを特徴とする,処理システム。

IPC (2件)：

H01L 21/68 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

H01L 21/68 A ,  H01L 21/30 502 J

Fターム (20件)：

5F031CA02 ,  5F031CA05 ,  5F031DA17 ,  5F031FA01 ,  5F031FA02 ,  5F031FA12 ,  5F031FA15 ,  5F031GA03 ,  5F031GA47 ,  5F031GA48 ,  5F031GA49 ,  5F031GA50 ,  5F031MA02 ,  5F031MA26 ,  5F031MA27 ,  5F031MA30 ,  5F046CD01 ,  5F046CD03 ,  5F046JA22 ,  5F046LA18