特許
J-GLOBAL ID：200903087255042932
レジストの洗浄除去用溶剤、及び電子部品用基材の製造法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
後藤 幸久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-036775
公開番号（公開出願番号）：特開平11-218937
出願日： 1998年02月02日
公開日（公表日）： 1999年08月10日
要約：
【要約】【課題】 広範なレジスト形成用塗布組成物又はレジストに対して優れた溶解性を示すレジスト形成用塗布組成物又はレジストの洗浄除去用溶剤を得る。【解決手段】 洗浄除去用溶剤は、レジスト形成用塗布組成物又はレジストを洗浄除去するための溶剤であって、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネートなどの炭酸エステルを含む。電子部品用基材の製造において、基板上に付着した不要のレジスト形成用塗布組成物又はレジストを上記の洗浄除去用溶剤で洗浄して除去する洗浄工程を設けることにより、レジストの膜厚が均一である高品質の電子部品用基材が得られる。
請求項（抜粋）：
レジスト形成用塗布組成物又はレジストを洗浄除去するための溶剤であって、炭酸エステルを含む洗浄除去用溶剤。
IPC (2件)：
FI (2件)：
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