特許

J-GLOBAL ID：200903087257912560

基板表面の乾式洗浄方法

発明者： 杉野 林志
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 高橋 敬四郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-283121
公開番号（公開出願番号）：特開平9-129582
出願日： 1995年10月31日
公開日（公表日）： 1997年05月16日
要約：

【要約】【課題】 基板表面に付着した金属汚染を除去するのに好適な乾式洗浄方法を提供する。【解決手段】 被洗浄基板の表面を、塩化水素ガスに触れさせ、該基板の表面を洗浄する第1工程と、前記第1工程後、前記基板の表面をハロゲン化シリコンと塩素を含む混合ガスに触れさせ、前記基板の表面を洗浄する第2工程とを有する。

請求項（抜粋）：

被洗浄基板の表面を、塩化水素ガスに触れさせ、該基板の表面を洗浄する第1工程と、前記第1工程後、前記基板の表面をハロゲン化シリコンと塩素を含む混合ガスに触れさせ、前記基板の表面を洗浄する第2工程とを有する基板表面の乾式洗浄方法。

IPC (2件)：

H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304

FI (2件)：

H01L 21/304 341 G ,  H01L 21/304 341 D