特許

J-GLOBAL ID：200903087262019466

CECVD装備に用いられるシャワーヘッド

発明者： 表 成 奎
出願人/特許権者： 株式会社ハイニックスセミコンダクター
代理人 (1件)： 中川 周吉 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-169258
公開番号（公開出願番号）：特開2002-030445
出願日： 2001年06月05日
公開日（公表日）： 2002年01月31日
要約：

【要約】【課題】 触媒などの化学的処理によってCVD法で金属薄膜を蒸着する際、化学的処理を均一に行えるようにして、金属薄膜の蒸着速度、質感、粘着特性などを改善することができる、CECVD装備に用いられるシャワーヘッドを提供すること。【解決手段】 本発明は、蒸着ソース供給装置からの蒸着ソースを第1シャワーゾーンに流入させるための蒸着ソース流入口と、前記第1シャワーゾーンに流入した蒸着ソースを第2シャワーゾーンに均一に流入させるためのブロッカーバッファプレートと、前記第2シャワーゾーンに流入した蒸着ソースを反応チャンバに噴射するための蒸着ソース噴射ノズルと、化学強化剤供給装置からの化学強化剤を第3シャワーゾーンに流入させるための化学強化剤流入口と、前記第3シャワーゾーンに流入した化学強化剤を前記反応チャンバに噴射するための化学強化剤噴射口とを含んでなることを特徴とする。

請求項（抜粋）：

蒸着ソース供給装置からの蒸着ソースを第1シャワーゾーンに流入させるための蒸着ソース流入口と、前記第1シャワーゾーンに流入した蒸着ソースを第2シャワーゾーンに均一に流入させるためのブロッカーバッファプレートと、前記第2シャワーゾーンに流入した蒸着ソースを反応チャンバに噴射するための蒸着ソース噴射ノズルと、化学強化剤供給装置からの化学強化剤を第3シャワーゾーンに流入させるための化学強化剤流入口と、前記第3シャワーゾーンに流入した化学強化剤を前記反応チャンバに噴射するための化学強化剤噴射ノズルとを含んでなることを特徴とするCECVD装備に用いられるシャワーヘッド。

IPC (3件)：

C23C 16/455 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/31

FI (3件)：

C23C 16/455 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/31 B

Fターム (20件)：

4K030BA01 ,  4K030BA02 ,  4K030BA17 ,  4K030BA18 ,  4K030BA20 ,  4K030BA38 ,  4K030BA42 ,  4K030CA04 ,  4K030EA03 ,  4K030FA10 ,  4K030LA15 ,  5F045AA03 ,  5F045AB31 ,  5F045AC16 ,  5F045AC17 ,  5F045DP03 ,  5F045DQ10 ,  5F045EB03 ,  5F045EE03 ,  5F045EF05