シリコン・ガス・インジェクタおよび製作の方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：萩原誠
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-557048
公開番号（公開出願番号）：特表2008-532283
出願日： 2006年02月13日
公開日（公表日）： 2008年08月14日
要約：

微細シリコン粉末、およびスピン・オン・ガラスなどの硬化性シリカ形成剤から形成されていて超音波で均質化されている接着剤で一緒に接合されている2つのシリコン・シェル(54,56)を含む、一括熱処理炉で使用することができるガス・インジェクタ・チューブ(40)。チューブは、その遠位端においてガスの出口(52)を有することができるか、またはシリコン・キャップ(86)で封止することができ、そのサイドに沿って形成された側部出口穴(84)を有する。そのシリコン・インジェクタ・チューブはシリコン塔およびシリコン・ライナと一緒に組み合わせて使用することができ、炉のホット・ゾーン内のすべてのバルク部分がシリコンから形成されるようにすることができる。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

シリコン・ガス・インジェクタであって、シリコン粉末およびシリカ形成剤から形成されている接着剤で一緒に結合された実質的に純粋なシリコンを含む2つのシェルから形成され、それらシェルの間に第1の中央内腔を形成しているインジェクタ・チューブを含むインジェクタ。

IPC (2件)：

H01L 21/31 , C23C 16/455

FI (2件)：

H01L21/31 B , C23C16/455

Fターム (12件)：

4K030CA04 , 4K030CA12 , 4K030EA06 , 4K030FA10 , 4K030KA46 , 5F045AA06 , 5F045AB33 , 5F045AC01 , 5F045AC12 , 5F045DP19 , 5F045DQ05 , 5F045EF11

引用特許：

出願人引用 (7件)

仮出願第60/655,483号
米国特許第6,455,395号
米国特許出願第09/860,392号

全件表示

前のページに戻る