特許
J-GLOBAL ID:200903087264258743

微粒子構造体の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 丸山 隆夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-178831
公開番号(公開出願番号):特開2006-003564
出願日: 2004年06月16日
公開日(公表日): 2006年01月05日
要約:
【課題】 微粒子の自己集積を利用して、構造欠陥の少ない、フォトニック結晶として利用することも可能である高品質の微粒子構造体の製造方法を提供する。【解決手段】 平行に配置した一対の基板1,2を微粒子分散液5に接触させて、一対の基板1,2によって形成された隙間に微粒子7を充填し、微粒子集積体3を形成する第一の工程と、隙間に微粒子7を充填した後の一対の基板1,2を加熱する第二の工程と、加熱した後の一対の基板1,2を第一の工程における微粒子分散液5の温度より低い温度まで冷却する第三の工程とを備えてなる微粒子構造体の製造方法などにより課題を解決した。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
平行に配置した一対の基板によって形成された隙間に、微粒子を分散媒に分散させて得られた微粒子分散液を充填してなる微粒子構造体の製造方法であって、 前記一対の基板を前記微粒子分散液に接触させて、前記隙間に微粒子を充填し、微粒子集積体を形成する第一の工程と、 前記隙間に前記微粒子集積体を形成した後の一対の基板を加熱する第二の工程と、 前記加熱した後の一対の基板を第一の工程における微粒子分散液の温度より低い温度まで冷却する第三の工程と、 を備えてなることを特徴とする微粒子構造体の製造方法。
IPC (2件):
G02B 1/02 ,  G02B 6/12
FI (2件):
G02B1/02 ,  G02B6/12 Z
Fターム (4件):
2H047KA03 ,  2H047PA01 ,  2H047QA04 ,  2H047QA07
引用特許:
出願人引用 (1件)
  • 特許第2693844号公報

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