特許
J-GLOBAL ID：200903087265240546
X線マスクの製造方法およびその製造装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-106985
公開番号（公開出願番号）：特開平9-293665
出願日： 1996年04月26日
公開日（公表日）： 1997年11月11日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 X線マスク製造において、X線吸収体の応力分布を低減し、パターン位置歪みの小さいX線マスクを製造する方法を提供する。【解決手段】 マスク支持体上にX線透過膜3を形成する工程と、前記マスク支持体の裏面の所定の領域をエッチング除去してウインドウ領域を形成する工程と、前記X線透過膜上にX線吸収体膜を形成する工程とを具備する方法である。前記X線吸収体膜を形成する工程は、前記X線透過膜の裏面に形成されたウインドウ領域に離間・近接して配置された温度補正部材1により、このX線透過膜3の温度を補正しつつ行なわれる。
請求項（抜粋）：
マスク支持体上にX線透過膜を形成する工程と、前記マスク支持体の裏面の所定の領域をエッチング除去してウインドウ領域を形成する工程と、前記X線透過膜上にX線吸収体膜を形成する工程とを具備し、前記X線吸収体膜を形成する工程は、前記X線透過膜の裏面に形成されたウインドウ領域に離間・近接して配置された温度補正部材により、このX線透過膜の温度を補正しつつ行なわれることを特徴とするX線マスクの製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 531 M
, G03F 1/08 A
