特許

J-GLOBAL ID：200903087277598446

シリル化及びN-シリル化された化合物の合成

発明者： ゲイトリー,ダニエル・アンソニー
出願人/特許権者： ボウルダー・サイエンティフィック・カンパニー
代理人 (1件)： 社本 一夫 (外5名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-598507
公開番号（公開出願番号）：特表2002-536451
出願日： 2000年02月03日
公開日（公表日）： 2002年10月29日
要約：

【要約】化学式(RSO3)2-Si-Q2・0.5HXを有する新規なシランが記述される。シリル化ビス-シクロペンタジェニル及びN-シリル化モノ(シクロペンタジェニル)配位子及び上記新規なシランを利用した類似のインデニル配位子が記述される。

請求項（抜粋）：

化学式 【化1】を有する化合物を化学式 【化2】を有する化合物と反応させることを含む方法であって、但し、Xは1〜10個の炭素原子を有するアルキル基、好ましくはt-ブチル基であり、そしてここで化学式 【化3】を有する化合物を含む反応混合物が生成する上記方法。

Fターム (10件)：

4H049VN01 ,  4H049VP01 ,  4H049VQ39 ,  4H049VR23 ,  4H049VR51 ,  4H049VS39 ,  4H049VS54 ,  4H049VT03 ,  4H049VU14 ,  4H049VU36