特許

J-GLOBAL ID：200903087287585202

液滴回収装置およびその方法

発明者： 千木 慶▲隆▼
出願人/特許権者： 株式会社ユメックス
代理人 (4件)： 古谷 栄男 ,  松下 正 ,  鶴本 祥文 ,  佐々木 康
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-257446
公開番号（公開出願番号）：特開2008-078031
出願日： 2006年09月22日
公開日（公表日）： 2008年04月03日
要約：

【課題】 真空を保ったまま、金属残滓を回収する。 【解決手段】 排出管21および廃液タンク23はヒータ29で覆われており、排出管21および廃液タンク23内の残滓は液状となる。排出管21の先端は溶解した残滓の界面よりも矢印α方向に伸びているので、残滓の界面25bは一定の位置で均衡する。残滓はノズル13から供給された液滴がそのまま排出管21に供給されると、その分、増加する。圧力調整器27は、廃液タンク23内の圧力を徐々に低くするよう調整する。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

金属の液滴を供給する液滴供給部および開口部を有する真空室、 前記開口部と連結された排出管、 前記排出管内に存在する残滓が溶解する温度で、前記排出管を保温する排出管保温手段、 前記溶解した溶解残滓を蓄積する蓄積筐体、 前記蓄積筐体内に存在する残滓が溶解する温度で、前記蓄積筐体を保温する蓄積筐体保温手段、 を備え、 前記蓄積筐体内に蓄積される溶解残滓の水平位置が前記排出管の端部に形成された開口部よりも高い位置になるよう、前記排出管の開口部を前記蓄積筐体内に位置させたこと、 を特徴とする金属残滓排出装置。

IPC (2件)：

H05G 2/00 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

H05G1/00 K ,  H01L21/30 531S

Fターム (7件)：

4C092AA06 ,  4C092AA15 ,  4C092AB10 ,  4C092AC09 ,  5F046GA20 ,  5F046GC03 ,  5F046GC05

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 極紫外放射線源のためのノズル
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-148892   出願人：ティーアールダブリュー・インコーポレーテッド