電子ビーム描画装置ならびにステージ位置測定装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鈴江武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-044307
公開番号（公開出願番号）：特開平8-241842
出願日： 1995年03月03日
公開日（公表日）： 1996年09月17日
要約：

【要約】【目的】この発明の目的は、大気中におけるリファレンス系と測長系との間に距離の差があっても、大気の状態変化による測定値の変動を除去し、精度よく電子ビームにより描画することにある。【構成】この発明の電子ビーム描画装置1では、ステージミラー3aとの間に所定の光路長を確保された測長系とリファレンスミラー4aとの間に測長系よりも長い光路長を確保されたリファレンス系からなる2つの光路を有するレーザ測長装置5から構成されている。リファレンス系の光路は、測長系の光路とリファレンス系の光路が大気中に位置される領域の光路長の差に対応する長さに対応された長さを有する光学媒体5eを含むことから、大気の状態変化により光の波長が変動することに起因するX-Yテーブル3の位置の測定誤差を除去できる。

請求項（抜粋）：

真空中および大気中に測長光路と、この測長光路による位置測定の相対的基準となるリファレンス光路とを持つ光干渉式測長装置を用いてステージの現在位置を測定するステージ位置測定装置であって、前記測長光路あるいは前記リファレンス光路の一方に、前記測長光路のうちで大気中に位置する光路長と前記リファレンス光路のうちで大気中に位置する光路長との間の差に対応する長さを有する大気の状態変化に対し光の波長に影響を与えることなく光を透過する光学媒体を含み、前記測長光路の大気中の光路と前記リファレンス光路の大気中の光路のそれぞれが大気の状態変化により変動される長さを実質的に等しくすることを特徴とするステージ位置測定装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 , G01B 11/00 , G03F 7/20 504 , G03F 9/00

FI (5件)：

H01L 21/30 541 D , G01B 11/00 G , G03F 7/20 504 , G03F 9/00 H , H01L 21/30 541 U

引用特許：

審査官引用 (1件)

レーザ干渉計
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-052418 出願人：株式会社ニコン

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