特許

J-GLOBAL ID：200903087320619444

スパッタ装置

発明者： 錦 博彦 ,  佐藤 崇 ,  山田 公彦
出願人/特許権者： シャープ株式会社
代理人 (1件)： 深見 久郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-383004
公開番号（公開出願番号）：特開2003-183823
出願日： 2001年12月17日
公開日（公表日）： 2003年07月03日
要約：

【要約】【課題】 高品質の膜を成膜できるスパッタ装置を提供する。【解決手段】 スパッタ装置100aは、内部空間4iを有するチャンバと、第1の組成の第1領域91と第1の組成と異なる第2の組成の第2領域92とを含み、第1領域91と第2領域92とをチャンバの内部空間4iに露出させる割合を変化させることができるようにチャンバ内に設けられたターゲット9a〜9cと、チャンバ内で第1領域91と第2領域92の露出割合を変化させることが可能であり、スパッタ中は第1領域91と第2領域92の露出割合が一定となるようにターゲット9a〜9cを制御する制御手段とを備える。

請求項（抜粋）：

内部空間を有するチャンバと、第1の組成の第1領域と前記第1の組成と異なる第2の組成の第2領域とを含み、前記第1領域と前記第2領域とを前記チャンバの前記内部空間に露出させる割合を変化させることができるように前記チャンバ内に設けられたターゲットと、前記チャンバ内での前記第1領域と前記第2領域との露出割合を変化させることが可能であり、スパッタ中は前記第1領域と前記第2領域との露出割合が一定となるように前記ターゲットを制御する制御手段とを備えた、スパッタ装置。

FI (2件)：

C23C 14/34 C ,  C23C 14/34 A

Fターム (9件)：

4K029BA23 ,  4K029CA05 ,  4K029DB03 ,  4K029DB04 ,  4K029DC13 ,  4K029DC15 ,  4K029DC16 ,  4K029DC45 ,  4K029DC46