特許

J-GLOBAL ID：200903087325063673

マスク

発明者： 池原 忠好
出願人/特許権者： セイコーエプソン株式会社
代理人 (3件)： 上柳 雅誉 ,  須澤 修 ,  宮坂 一彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-222228
公開番号（公開出願番号）：特開2009-054512
出願日： 2007年08月29日
公開日（公表日）： 2009年03月12日
要約：

【課題】マスクと被成膜基板との位置合わせ精度を低下しにくいマスクを提供すること。【解決手段】板状のマスク基板2に、被成膜基板に形成される薄膜パターンに対応する開口部3と、前記被成膜基板との位置合わせに用いるマスクアライメント部4とが形成され、マスクアライメント部4は、開口端面が前記被成膜基板の成膜面を向き、底面の粗さがマスク基板2の上面粗さと異なる凹部である。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

板状のマスク基板に、被成膜基板に形成される薄膜パターンに対応する開口部と、前記被成膜基板との位置合わせに用いるアライメント部とが形成され、 該アライメント部は、開口端面が前記被成膜基板の成膜面を向き、底面の粗さが前記マスク基板の前記被成膜基板との対向面における少なくとも前記アライメント部の周辺領域の表面粗さと異なる凹部であることを特徴とするマスク。

IPC (3件)：

H05B 33/10 ,  C23C 14/04 ,  H01L 51/50

FI (3件)：

H05B33/10 ,  C23C14/04 A ,  H05B33/14 A

Fターム (15件)：

3K107AA01 ,  3K107BB01 ,  3K107CC35 ,  3K107CC45 ,  3K107GG04 ,  3K107GG33 ,  3K107GG54 ,  4K029AA09 ,  4K029AA24 ,  4K029BA62 ,  4K029BB03 ,  4K029BC07 ,  4K029CA01 ,  4K029DB06 ,  4K029HA03

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 真空成膜装置、そのマスク着脱装置、及びマスク位置合わせ方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-343645   出願人：アネルバ株式会社