特許

J-GLOBAL ID：200903087339306803

導電層の形成方法および液晶表示装置の製造方法

発明者： 高橋 義広
出願人/特許権者： シャープ株式会社
代理人 (1件)： 小池 隆彌
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-296604
公開番号（公開出願番号）：特開平11-135507
出願日： 1997年10月29日
公開日（公表日）： 1999年05月21日
要約：

【要約】【課題】 低抵抗配線や反射率の極めて高い反射電極などの微細加工を極めて容易に行うことが可能な導電層の形成方法と、これらを用いて効率良く製造することが可能な液晶表示装置の製造方法を提供する。【解決手段】 銀を用いた導電層の形成方法において、絶縁物上に銀薄膜を形成する工程と、前記銀薄膜の一部を銀化合物に変化させる工程と、前記銀化合物に変化させた部分を、前記銀薄膜を溶解しないエッチャントを用いて溶解除去する工程と、を含むことを特徴とする。

請求項（抜粋）：

銀を用いた導電層の形成方法において、絶縁物上に銀薄膜を形成する工程と、前記銀薄膜の一部を銀化合物に変化させる工程と、前記銀化合物に変化させた部分を、前記銀薄膜を溶解しないエッチャントを用いて溶解除去する工程と、を含むことを特徴とする導電層の形成方法。

IPC (5件)：

H01L 21/3213 ,  G02F 1/1343 ,  H01L 21/28 ,  H01L 21/3205 ,  C23F 1/40

FI (5件)：

H01L 21/88 C ,  G02F 1/1343 ,  H01L 21/28 E ,  C23F 1/40 ,  H01L 21/88 M