気相成長膜の製造装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：田辺徹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-080273
公開番号（公開出願番号）：特開平6-267855
出願日： 1993年03月16日
公開日（公表日）： 1994年09月22日
要約：

【要約】【目的】基板の気相成長面に異物が混入しにくくする。【構成】基板の表面に気相成長膜を製造する装置において、気相成長膜を形成する気相成長面が下向きとなるように基板を配置することを特徴とする気相成長膜の製造装置。

請求項（抜粋）：