特許
J-GLOBAL ID：200903087346804606
2-スルホン酸-4,6-ジニトロレゾルシン及びその塩とそれらの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
最上 正太郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-158850
公開番号（公開出願番号）：特開2000-344733
出願日： 1999年06月07日
公開日（公表日）： 2000年12月12日
要約：
【要約】【課題】安価に4,6-ジアミノレゾルシンを製造するために有用な新規な中間体およびその製造方法を提供する。【解決手段】下式で表される2-スルホン酸-4,6-ジニトロレゾルシン及びその塩。(式中Mは水素、アルカリ金属、アルカリ土類金属を表し、nは1または2)(1) レゾルシンをスルホン化剤と接触させて2,4,6-トリスルホン酸レゾルシンを製造する第一工程、(2) 2,4,6-トリスルホン酸レゾルシンをニトロ化剤と接触させて2-スルホン酸-4,6-ジニトロレゾルシンを製造する第二工程からなる製造方法。
請求項（抜粋）：
下式で表される2-スルホン酸-4,6-ジニトロレゾルシン及びその塩。【化1】(式中Mは水素、アルカリ金属、アルカリ土類金属を表し、nは1または2)
IPC (4件)：
C07C309/42
, C07C303/06
, C07C303/22
, C07C215/80
C07C309/42
, C07C303/06
, C07C303/22
, C07C215/80
4H006AA01
, 4H006AA02
, 4H006AB84
, 4H006AC51
, 4H006AC61
, 4H006BD70
