特許
J-GLOBAL ID：200903087360029208
表面処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小林 傅
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-287175
公開番号（公開出願番号）：特開平6-140491
出願日： 1992年10月26日
公開日（公表日）： 1994年05月20日
要約：
【要約】【目的】 本発明は、モニタ-ウエハの移載枚数に関係なく、ボ-トに均等間隔をもってモニタ-ウエハを移載することができる表面処理装置を提供することを目的とする。【構成】 所定枚数のウエハを収納可能な製品ウエハカセットとダミ-ウエハカセット及びモニタ-ウエハカセットと、製品ウエハとダミ-ウエハとに割り当てられる棚とを有するボ-トと、シ-ケンサからの指令を受けてウエハカセットもしくはボ-トからウエハを取り出してウエハカセットからボ-トもしくはその逆に移載する移載ロボットを備える表面処理装置において、シケンサは、製品ウエハとダミ-ウエハ、及びモニタ-ウエハの移載枚数の各デ-タが設けられ、このデ-タに基づいて演算により製品ウエハに割り当てられる棚に均等間隔を持ってモニタ-ウエハを移載する棚を指定することを特徴とする。
請求項（抜粋）：
所定枚数のウエハを一定間隔を隔てて段々に収納可能であって所定位置にあるステ-ジに対して搬入・搬出される製品ウエハカセットとダミ-ウエハカセット及びモニタ-ウエハカセットと、製品ウエハに割り当てられる棚とダミ-ウエハに割り当てられる棚とを有し所定位置から処理ユニットの反応管内へ又はその逆に移送されるボ-トと、シ-ケンサからの指令を受けて上記ウエハカセットもしくは上記ボ-トからウエハを取り出して上記ウエハカセットから上記ボ-トもしくはその逆に移載する移載ロボットを備え、上記ボ-トの棚にモニタ-ウエハを移載して上記反応管内で表面処理することにより、上記製品ウエハの表面処理に適した処理条件を設定する表面処理装置において、上記シケンサは、上記製品ウエハと上記ダミ-ウエハ、及び上記モニタ-ウエハの移載枚数の各デ-タが設けられ、このデ-タに基づいて演算により上記製品ウエハに割り当てられる棚に均等間隔を持って上記モニタ-ウエハを移載する棚を指定するとともに、この演算結果により上記移載ロボットで上記指定された棚に上記モニタ-ウエハを移載させることを特徴とする表面処理装置。
IPC (4件)：
H01L 21/68
, H01L 21/205
, H01L 21/22
, H01L 21/31
