特許

J-GLOBAL ID：200903087364334331

低アルカリ金属含有水性シリカゾルの製造方法

発明者： 横山 卓史 ,  末村 尚彦
出願人/特許権者： 日産化学工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-359017
公開番号（公開出願番号）：特開2004-189534
出願日： 2002年12月11日
公開日（公表日）： 2004年07月08日
要約：

【課題】セラミックス、触媒、及び電子工業用研磨剤の分野の用途に有用である、アルカリ金属珪酸塩の水溶液を原料とした、アルカリ金属、特にナトリウムの少ない水性シリカゾルを容易に製造する方法を提供すること。【解決手段】下記の工程(a)及び(b)を含む低アルカリ金属含有水性シリカゾルの製造方法による。(a):アルカリ金属を包含するコロイダルシリカ粒子を含有するアンモニア安定化水性シリカゾルを、温度98〜150°Cに加熱し、その温度を時間1〜12hに保持する工程、(b):(a)工程で得られた加熱処理されたアンモニア安定化水性シリカゾルを陽イオン交換する工程。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

下記の工程(a)及び(b)を含む低アルカリ金属含有水性シリカゾルの製造方法。 (a):アルカリ金属を包含するコロイダルシリカ粒子を含有するアンモニア安定化水性シリカゾルを、温度98〜150°Cに加熱し、その温度を時間1〜12hに保持する工程、 (b):(a)工程で得られた加熱処理されたアンモニア安定化水性シリカゾルを陽イオン交換する工程。

IPC (3件)：

C01B33/141 ,  B01J13/00 ,  C01B33/148

FI (3件)：

C01B33/141 ,  B01J13/00 C ,  C01B33/148

Fターム (30件)：

4G065AA02 ,  4G065AA07 ,  4G065AA10 ,  4G065BA15 ,  4G065BB06 ,  4G065CA13 ,  4G065DA04 ,  4G065DA09 ,  4G065EA01 ,  4G065EA03 ,  4G065EA05 ,  4G065EA06 ,  4G065FA01 ,  4G072AA28 ,  4G072CC01 ,  4G072DD06 ,  4G072DD07 ,  4G072EE01 ,  4G072GG03 ,  4G072HH18 ,  4G072JJ44 ,  4G072LL06 ,  4G072MM14 ,  4G072PP20 ,  4G072QQ05 ,  4G072RR07 ,  4G072RR12 ,  4G072TT01 ,  4G072UU15 ,  4G072UU30