特許

J-GLOBAL ID：200903087383296343

電子ビーム描画方法

発明者： 畑 健志 ,  神尾 昌司
出願人/特許権者： 三菱電機株式会社
代理人 (1件)： 曾我 道照 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-231637
公開番号（公開出願番号）：特開平5-074690
出願日： 1991年09月11日
公開日（公表日）： 1993年03月26日
要約：

【要約】【目的】 この発明は、重ね描画及びドーズ量制御を行うことなく、又、描画用のパターンのデータ量の増加を必要最小限に抑制してスループットに悪影響を与えることなく、プリント基板等の広い領域の描画が可能な電子ビーム描画方法を得る。【構成】 描画位置指定領域となるフィールドfaの中心Cを最大偏向領域2の中心と一致させると共に、フィールドのXY方向の大きさFを、それぞれ最大偏向領域の大きさAよりも描画用のパターン11及び12の最大幅Pだけ小さく設定し、最大偏向領域の範囲内で複数のフィールドにまたがるパターンを分割せずに描画し、描画用のパターンの最大幅の1/2の長さを電子ビームの偏向量で補う。

請求項（抜粋）：

電子ビームの偏向により描画可能な最大偏向領域と、前記電子ビームが照射されるXYテーブルの1回の移動距離に相当するフィールドとを組み合わせ、所定のパターンデータを描画する電子ビーム描画方法において、描画位置指定領域となる前記フィールドの中心を前記最大偏向領域の中心と一致させると共に、前記フィールドのXY方向の大きさを、それぞれ前記最大偏向領域よりも描画用のパターンの最大幅だけ小さく設定し、前記最大偏向領域の範囲内で複数のフィールドにまたがるパターンを分割せずに描画することを特徴とする電子ビーム描画方法。