特許
J-GLOBAL ID：200903087393194069
洗浄方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高田 守
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-095086
公開番号（公開出願番号）：特開平5-291221
出願日： 1992年04月15日
公開日（公表日）： 1993年11月05日
要約：
【要約】【目的】 0.1μm以下の汚染粒子の除去や、有機物からなる分子状汚染ならびに炭酸からなる汚染の完全な除去を行い得る優れた洗浄方法を提供する。【構成】 オゾンを溶解した液体6に被洗浄ウェハ2を浸漬し、この浸漬した被洗浄ウェハ2表面に紫外光を照射して洗浄する。
請求項（抜粋）：
オゾンを溶解した液体、またはオゾンガスをバブリングさせた液体中に被洗浄物を浸漬し、この浸漬した被洗浄物表面に紫外光を照射して洗浄することを特徴とする洗浄方法。
IPC (3件)：
H01L 21/304 341
, B08B 3/08
, H05K 3/26
