特許

J-GLOBAL ID：200903087395957671

現像処理の評価方法、レジストパタ-ン形成方法及びレジストパタ-ン形成システム

発明者： 羽田 敬子 ,  小野 優子
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 井上 俊夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-244652
公開番号（公開出願番号）：特開2002-057093
出願日： 2000年08月11日
公開日（公表日）： 2002年02月22日
要約：

【要約】【課題】 レジストパターンを得るために基板に現像液を供給し、その後リンス液を供給するにあたり、リンス状態を高い信頼性で評価すること。【解決手段】 露光後の基板に現像液を供給し、更にリンス液を供給した後、当該基板を加熱、冷却し、その後少なくとも基板の表面を前処理液例えば純水に浸す。これにより基板表面に残っている現像液の成分が前処理液に溶解する。続いて前処理液をイオンクロマト分析装置にて分析を行って前記成分を定量し、この定量結果によりリンス状態を評価する。この評価結果については、例えばリンス時間と前記成分の濃度との相関を求めてリンス時間を設定してもよいし、その濃度に基づいてリンス時間を自動調整するようにしてもよい。

請求項（抜粋）：

レジストが塗布され、露光が行われた基板の表面に現像液を供給する現像工程と、前記基板にリンス液を供給して現像液を洗い流すリンス工程と、次いで少なくとも基板の表面を前処理液に浸して、基板の表面に付着している現像液中の成分を前処理液に溶かす前処理工程と、前記前処理液に対して分析を行って現像液中の成分を定量する分析工程と、を含むことを特徴とする現像処理の評価方法。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/26 501 ,  G03F 7/30 ,  G01N 1/28

FI (5件)：

G03F 7/26 501 ,  G03F 7/30 ,  H01L 21/30 569 Z ,  H01L 21/30 569 F ,  G01N 1/28 X

Fターム (11件)：

2H096AA25 ,  2H096AA27 ,  2H096GA02 ,  2H096GA17 ,  2H096JA04 ,  2H096LA18 ,  2H096LA19 ,  5F046LA03 ,  5F046LA14 ,  5F046LA18 ,  5F046LA19