特許

J-GLOBAL ID：200903087406429320

水処理装置

発明者： 堤 正彦 ,  毛受 卓 ,  松代 武士 ,  出 健志 ,  有村 良一 ,  高橋 良明 ,  相馬 孝浩
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (8件)： 鈴江 武彦 ,  河野 哲 ,  中村 誠 ,  蔵田 昌俊 ,  峰 隆司 ,  福原 淑弘 ,  村松 貞男 ,  橋本 良郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-233869
公開番号（公開出願番号）：特開2008-055291
出願日： 2006年08月30日
公開日（公表日）： 2008年03月13日
要約：

【課題】原水中に含まれる揮発性物質を高効率に除去する装置を提供する。【解決手段】水処理装置は、揮発性物質VMを含有する原水が供給される反応槽10と、反応槽10内の原水に微細気泡MBを発生させ、微細気泡MBにより揮発性物質VMをストリッピングして原水上の気相領域へ放散させるための微細気泡発生装置20とを備え、ストリッピング後の排ガスは活性炭を充填した揮発性物質除去槽50により、臭気物質および揮発性物質が除去される。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

揮発性物質を含有する原水が供給される反応槽と、 前記反応槽内の原水に微細気泡を発生させ、該微細気泡により前記揮発性物質をストリッピングして該原水上の気相領域へ放散させるための微細気泡発生装置と を備えたことを特徴とする水処理装置。

IPC (11件)：

C02F 1/20 ,  B01D 19/00 ,  B01D 53/38 ,  B01D 53/81 ,  C02F 1/78 ,  C02F 1/52 ,  C02F 1/00 ,  C02F 3/12 ,  B01D 24/02 ,  C02F 11/04 ,  B01D 53/68

FI (11件)：

C02F1/20 A ,  B01D19/00 F ,  B01D19/00 101 ,  B01D53/34 116A ,  C02F1/78 ,  C02F1/52 Z ,  C02F1/00 L ,  C02F3/12 N ,  B01D23/16 ,  C02F11/04 Z ,  B01D53/34 134Z

Fターム (48件)：

4D002AA01 ,  4D002AA13 ,  4D002AA21 ,  4D002AB02 ,  4D002AB03 ,  4D002AC10 ,  4D002BA04 ,  4D002CA07 ,  4D002DA41 ,  4D011AA15 ,  4D011AA16 ,  4D011AC04 ,  4D011AD03 ,  4D015BA19 ,  4D015BA22 ,  4D015BB05 ,  4D015CA14 ,  4D015CA20 ,  4D015DA02 ,  4D015DA04 ,  4D015EA32 ,  4D015EA35 ,  4D015EA37 ,  4D015FA01 ,  4D015FA02 ,  4D015FA15 ,  4D015FA16 ,  4D015FA17 ,  4D015FA25 ,  4D028BD06 ,  4D037AA05 ,  4D037AB04 ,  4D037AB14 ,  4D037BA23 ,  4D037BB05 ,  4D037BB07 ,  4D041CA03 ,  4D041CA04 ,  4D041CB00 ,  4D050AA03 ,  4D050AB11 ,  4D050BB02 ,  4D050BD06 ,  4D050CA03 ,  4D059AA03 ,  4D059AA05 ,  4D059BA12 ,  4D059CA28

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 揮発性有機塩素化合物含有水処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-059393   出願人：株式会社東芝