特許
J-GLOBAL ID:200903087409270550

金属元素含有薄膜積層体の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-366817
公開番号(公開出願番号):特開2000-185362
出願日: 1998年12月24日
公開日(公表日): 2000年07月04日
要約:
【要約】【課題】 金属含有薄膜の表面硬度が高く、透明性基材との密着性が優れることにより、フラットパネルディスプレイ、CRTディスプレイ等の反射防止用皮膜として好適に使用できる金属含有薄膜積層体の製造方法を提供する。【解決手段】 透明性基材上にハードコート層を設けた後、該ハードコート層に放電処理後の表面粗さ(Ra1)が処理前の表面粗さ(Ra0)の3倍以下となるように放電処理を施し、しかる後金属含有薄膜を積層する。
請求項(抜粋):
透明性基材上にハードコート層を介して金属元素含有薄膜を積層する金属元素含有薄膜積層体の製造方法であって、該ハードコート層に放電処理を施すことにより、処理後の表面粗さ(Ra1)を処理前の表面粗さ(Ra0)の3倍以下、かつ、処理後の表面の全炭素元素数に占めるカルボキシル基由来の炭素元素数の比率を0.5〜2.5%となした後に金属含有薄膜を積層することを特徴とする金属元素含有薄膜積層体の製造方法。
IPC (5件):
B32B 7/02 103 ,  B32B 9/00 ,  B32B 27/06 ,  C23C 14/02 ,  C23C 16/02
FI (5件):
B32B 7/02 103 ,  B32B 9/00 A ,  B32B 27/06 ,  C23C 14/02 A ,  C23C 16/02
Fターム (41件):
4F100AA20 ,  4F100AA21 ,  4F100AB01C ,  4F100AJ06 ,  4F100AK01B ,  4F100AK25 ,  4F100AR00A ,  4F100AS00B ,  4F100BA03 ,  4F100BA07 ,  4F100BA10A ,  4F100BA10C ,  4F100DD07B ,  4F100EH461 ,  4F100EH662 ,  4F100EJ421 ,  4F100EJ55B ,  4F100EJ861 ,  4F100GB41 ,  4F100JK06 ,  4F100JK12 ,  4F100JM02C ,  4F100JN01A ,  4F100YY00B ,  4K029BA46 ,  4K029BA48 ,  4K029BB02 ,  4K029BC07 ,  4K029CA05 ,  4K029DC03 ,  4K029FA02 ,  4K030BA01 ,  4K030BA44 ,  4K030BA46 ,  4K030BB01 ,  4K030BB12 ,  4K030CA07 ,  4K030DA02 ,  4K030FA01 ,  4K030HA04 ,  4K030LA18

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