特許
J-GLOBAL ID:200903087409521820

薄膜転写用フィルムとその製造方法およびそれを用いた有機EL素子

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 野河 信太郎
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-155692
公開番号(公開出願番号):特開2003-347054
出願日: 2002年05月29日
公開日(公表日): 2003年12月05日
要約:
【要約】【課題】 所望のパターン通りに有機EL素子からなる画素を形成することができる薄膜転写用フィルムとその製造方法およびそれを用いた有機EL素子を提供することを課題とする。【解決手段】 基板/第1電極/少なくとも発光層を含む有機EL層/第2電極からなる有機EL素子の薄膜転写用フィルムであり、基材フィルム上に第1電極、少なくとも発光層を含む有機EL層および第2電極から選択される単層または多層の転写層が積層され、転写層の少なくとも1層が、転写後の形状にパターニングされていることを特徴とする薄膜転写用フィルムにより、上記の課題を解決する。
請求項(抜粋):
基板/第1電極/少なくとも発光層を含む有機EL層/第2電極からなる有機EL素子の薄膜転写用フィルムであり、基材フィルム上に第1電極、少なくとも発光層を含む有機EL層および第2電極から選択される単層または多層の転写層が積層され、転写層の少なくとも1層が、転写後の形状にパターニングされていることを特徴とする薄膜転写用フィルム。
IPC (2件):
H05B 33/14 ,  H05B 33/10
FI (2件):
H05B 33/14 A ,  H05B 33/10
Fターム (3件):
3K007AB18 ,  3K007DB03 ,  3K007FA01

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