特許
J-GLOBAL ID：200903087415657335
基板端縁洗浄装置
発明者：
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小野 由己男 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-129071
公開番号（公開出願番号）：特開平6-335666
出願日： 1993年05月31日
公開日（公表日）： 1994年12月06日
要約：
【要約】【目的】 角型基板の端縁に洗浄後に溶剤等が残留しないようにする。【構成】 基板端縁洗浄装置は、表面に薄膜が形成された角型基板の端縁を洗浄する装置であって、基板保持部と溶剤吐出部と吸引部材と制御部とを備えている。基板保持部は角型基板を吸着保持する。溶剤吐出部は、基板保持部によって保持された角型基板の端縁の表裏両面に溶剤を吐出して不要薄膜を溶解する。吸引部材は、溶剤吐出部によって溶解された不要薄膜及び吐出された溶剤を除去する。制御部は、溶剤吐出部及び吸引部材を動作させつつ角型基板の4辺に沿って移動させて洗浄動作を実行し、洗浄後に溶剤吐出部のリンス吐出動作を禁止した状態で、吸引部材を動作させつつ前記溶剤吐出部及び吸引部材を4辺に沿って移動させる。
請求項（抜粋）：
表面に薄膜が形成された角型基板の端縁を洗浄する基板端縁洗浄装置であって、前記角型基板を保持する基板保持手段と、前記基板保持手段によって保持された前記角型基板の端縁の表裏両面の少なくともいずれか一方に溶剤を吐出して不要薄膜を溶解する溶剤吐出手段と、前記溶剤吐出手段によって溶解された不要薄膜及び吐出された溶剤を除去する除去手段と、前記溶剤吐出手段及び除去手段を動作させつつ前記角型基板の少なくとも一辺に沿って移動させる第1制御手段と、前記第1制御手段による制御後、前記溶剤吐出手段の吐出動作を禁止した状態で、前記除去手段を動作させつつ前記溶剤吐出手段及び除去手段を前記一辺に沿って移動させる第2制御手段と、を備えた基板端縁洗浄装置。
IPC (3件)：
B08B 11/04
, C03C 23/00
, H01L 21/027
