特許
J-GLOBAL ID:200903087462982953
エレクトロルミネッセンス装置とその製造方法及び電子機器
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
上柳 雅誉 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-122812
公開番号(公開出願番号):特開2003-317960
出願日: 2002年04月24日
公開日(公表日): 2003年11月07日
要約:
【要約】【課題】 発光層の寿命に影響することなく、映り込みやコントラスト低下などの外光の影響を低減した、エレクトロルミネッセンス装置とその製造方法、及び電子機器を提供する。【解決手段】 基体121と、この基体121上に設けられた画素電極141、及び絶縁性材料からなる隔壁150と、第1電極141上に配置された発光層140Bを含む積層体140と、積層体140上及び隔壁上に配置された第2電極154とを備え、発光層140Bからの光を第1電極141側から取り出すエレクトロルミネッセンス装置70である。隔壁150における第2電極154との接合面に凹凸が形成され、この凹凸上の第2電極154が乱反射部151となっている。
請求項(抜粋):
外光を乱反射する凹凸面を有した乱反射部を、備えてなることを特徴とするエレクトロルミネッセンス装置。
IPC (6件):
H05B 33/14
, H05B 33/02
, H05B 33/10
, H05B 33/12
, H05B 33/22
, H05B 33/26
FI (6件):
H05B 33/14 A
, H05B 33/02
, H05B 33/10
, H05B 33/12 B
, H05B 33/22 Z
, H05B 33/26 Z
Fターム (5件):
3K007AB17
, 3K007BB06
, 3K007CC01
, 3K007CC03
, 3K007DB03
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