歯周病治療薬

発明者： , , ,
出願人/特許権者： , , ,
代理人 (1件)：有賀三幸 (外6名)
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2000003483
公開番号（公開出願番号）：WO2000-073270
出願日： 2000年05月31日
公開日（公表日）： 2000年12月07日
要約：

【要約】映像信号(Sv)のジッタを検出するジッタ検出装置(22)は、映像信号(Sv)の1フィールド(v)の垂直時間(Stf(v))を測定し、垂直時間信号(Stf(v))に基づいて映像信号(Sv)がジッタしているか否かを判定する。映像信号(Sv)がジッタしていると連続して判定される回数(Cej)が第1の所定回数(Tej)より小さい場合には映像信号(Sv)をジッタ信号(Svj)と認定し、映像信号(Sv)がジッタしていないと連続して判定される回数(Cnj)が第2の所定回数(Tnj)より小さい場合に映像信号(Sv)を非ジッタ信号(Svjn)と認定する。

請求項（抜粋）：

下記一般式(1)〔式中、R1は水素原子又は低級アルコキシ基を示し、 R2は水素原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、カルボキシアルキル基又はアルコキシカルボニルアルキル基を示し、 R3は水素原子、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、カルボキシアルキル基、アルコキシカルボニルアルキル基、カルボキシアルコキシ基又はアルコキシカルボニルアルコキシ基を示し、 R4は水素原子、ハロゲン原子、アミノ基、シアノ基、ニトロ基、水酸基、低級アルキル基又は低級アルコキシ基を示し、 nは0〜4の数を示し、 Aは1〜2個のヒドロキシアルキル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、カルボキシアルキル基若しくはアルコキシカルボニルアルキル基が置換していてもよい炭素数1〜4のアルキレン基又は基-B-N(R5)-(ここで、Bは低級アルキレン基又はカルボニル基を示し、R5は水素原子又は基-D-W-R6(ここで、Dは基-C(=Z)-(ここで、Zは酸素原子又は硫黄原子を示す)、基-C(=O)-C(=O)-又はスルホニル基を示し、Wは単結合又は基-N(R7)-(ここで、R7は水素原子、カルバモイル基、低級アルコキシカルボニル基、モノ-若しくはジ-低級アルキルアミノカルボニル基、低級アルキルスルホニル基、モノ-若しくはジ-低級アルキルアミノチオカルボニル基、置換基を有していてもよい低級アルキル基又は置換基を有していてもよい低級アルカノイル基を示す)を示し、R6は水酸基、低級アルコキシ基、置換基を有していてもよい低級アルキル基、置換基を有していてもよいアリール基又は置換基を有していてもよいヘテロアリール基を示す))を示し、 Xは単結合、酸素原子、硫黄原子又はカルボニル基を示し、 Yは置換基を有していてもよい飽和若しくは不飽和の5〜6員の複素環式基若しくは環状炭化水素基、置換基を有していてもよいアミノ基又は置換基を有していてもよいアミノアルキル基を示し、式で表される基は、インドリル、ベンゾフラニル、ベンゾチエニル、ベンズイミダゾリル、ベンズオキサゾリル、ベンゾチアゾリル、ナフチル、テトラヒドロナフチル及びインダニルより選ばれる基を示す〕で表される化合物又はその塩を有効成分とする歯周病の予防及び/又は治療薬。

IPC (10件)：

C07D207/12 , A61K 31/40 , A61K 31/4025 , A61K 31/445 , A61K 31/4535 , A61K 31/454 , C07D211/46 , C07D401/12 , C07D403/12 , C07D409/12

FI (10件)：

C07D207/12 , A61K 31/40 , A61K 31/4025 , A61K 31/445 , A61K 31/4535 , A61K 31/454 , C07D211/46 , C07D401/12 , C07D403/12 , C07D409/12

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