特許
J-GLOBAL ID:200903087472817624

多軸レーザ加工装置及びレーザ加工方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 高橋 敬四郎 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-193843
公開番号(公開出願番号):特開2002-011584
出願日: 2000年06月28日
公開日(公表日): 2002年01月15日
要約:
【要約】 (修正有)【課題】 レーザ光源から放射されたパルスレーザビームを有効に利用する。【解決手段】 レーザ光源1から出射されたパルスレーザビーム2の、時間軸上に配列した複数のパルスを、外部から与えられる制御信号に基づいて駆動する振り分け光学系10によって、各パルスが第1の光軸及び第2の光軸のいずれか一方の光軸に沿って伝搬するように振り分けられる。第1の走査光学系17が、第1の光軸に沿って伝搬するパルスレーザビームをpl1を、加工対象物51上に導くと共に、パルスレーザビームpl1の照射位置を移動させる。第2の走査光学系18が、第2の光軸に沿って伝搬するパルスレーザビームpl2を、加工対象物上に導くと共に、パルスレーザビームpl2の照射位置を移動させる。一方の走査光学系17,18を通して加工対象物53上にパルスレーザビームが照射されている期間に、他方の走査光学系18,17を駆動してビームの照射位置を移動させておく。
請求項(抜粋):
パルスレーザビームを出射するレーザ光源と、前記レーザ光源から出射されたパルスレーザビームの、時間軸上に配列した複数のパルスを、外部から与えられる制御信号に基づいて、各パルスが第1の光軸及び第2の光軸のいずれか一方の光軸に沿って伝搬するように振り分ける振り分け光学系と、前記第1の光軸に沿って伝搬するパルスレーザビームを、加工対象物上に導くと共に、外部から与えられる信号に基づいて駆動されることにより、加工対象物上のある領域内で、パルスレーザビームの照射位置を移動させる第1の走査光学系と、前記第2の光軸に沿って伝搬するパルスレーザビームを、加工対象物上に導くと共に、外部から与えられる信号に基づいて駆動されることにより、加工対象物上のある領域内で、パルスレーザビームの照射位置を移動させる第2の走査光学系と、前記パルスレーザビームが、前記第1の走査光学系を通して加工対象物上に照射されている期間に、前記第2の走査光学系を駆動してビームの照射位置を移動させておき、前記パルスビームが、前記第2の走査光学系を通して加工対象物上に照射されている期間に、前記第1の走査光学系を駆動してビームの照射位置を移動させておく制御手段とを有する多軸レーザ加工装置。
IPC (5件):
B23K 26/00 ,  B23K 26/06 ,  B23K 26/08 ,  G02B 26/10 ,  H05K 3/00
FI (5件):
B23K 26/00 M ,  B23K 26/06 C ,  B23K 26/08 B ,  G02B 26/10 B ,  H05K 3/00 N
Fターム (9件):
2H045AB01 ,  2H045BA15 ,  2H045BA26 ,  2H045BA34 ,  4E068CA03 ,  4E068CA09 ,  4E068CB01 ,  4E068CD03 ,  4E068CE03

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