特許

J-GLOBAL ID：200903087478443793

マーク位置検出方法及び装置、位置検出方法及び装置、露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法

発明者： 金谷 有歩
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 立石 篤司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-060242
公開番号（公開出願番号）：特開2003-257841
出願日： 2002年03月06日
公開日（公表日）： 2003年09月12日
要約：

【要約】【課題】 マークの種類によらず、精度良く位置検出を行う。【解決手段】 被検出マーク、すなわち位置検出の対象となるマークに関する形状情報に応じて、目標フォーカス位置の決定方法を選択する(ステップ306〜312)。次いで、選択された決定方法に従って、結像式のマーク検出系による被検出マークの位置検出の際の目標フォーカス位置を決定する(ステップ316、320)。そして、前記目標フォーカス位置に基づいて検出光学系の光軸方向に関する被検出マークが形成された物体(ウエハ)の位置を制御し、マーク検出系を用いて前記光軸に直交する2次元面内での被検出マークの位置情報を検出する(ステップ322〜326)。従って、マークのデザインに応じた最適なフォーカス状態で、マーク検出系により光軸に直交する2次元面内での被検出マークの位置情報を精度良く検出することが可能となる。

請求項（抜粋）：

物体上に形成されたマークの位置情報を検出するマーク位置検出方法であって、被検出マークに関する形状情報に応じて、目標フォーカス位置の決定方法を選択する選択工程と;前記選択された決定方法に従って、前記被検出マークの像を検出光学系を介して撮像する結像式のマーク検出系による前記被検出マークの位置検出の際の目標フォーカス位置を決定する決定工程と;前記目標フォーカス位置に基づいて前記検出光学系の光軸方向に関する前記物体の位置を制御して、前記マーク検出系を用いて前記光軸に直交する2次元面内での前記被検出マークの位置情報を検出する検出工程と;を含むマーク位置検出方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/22

FI (3件)：

G03F 7/22 H ,  H01L 21/30 525 F ,  H01L 21/30 525 W

Fターム (4件)：

5F046FA05 ,  5F046FA10 ,  5F046FC04 ,  5F046FC06