特許
J-GLOBAL ID：200903087483485836
半導体プロセス終点判定用モニタ装置
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高田 幸彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-331699
公開番号（公開出願番号）：特開平5-166905
出願日： 1991年12月16日
公開日（公表日）： 1993年07月02日
要約：
【要約】【構成】発光モニタ装置に既知の光源6からの光を半導体製造装置内に観測窓2を介し入射させその散乱反射光を受光し観測窓2の透過率を計測できる様にした。【効果】半導体製造装置の反応容器内からの光信号の検出が精度良く出来るようになり、半導体製造過程の歩留まりの向上と高スループット化が実現する。
請求項（抜粋）：
半導体素子製造プロセスの終点判定用モニタ装置において、光源からの既知の光強度を計測することによりモニタセンサの校正を行う手段を設けたことを特徴とする発光モニタ装置。
IPC (3件)：
H01L 21/66
, H01L 21/302
, H01L 21/203
