特許

J-GLOBAL ID：200903087490691719

酸性シリカゾルの製造方法

発明者： 渡部 淑胤 ,  鹿島 吉恭 ,  安藤 幹夫 ,  三浦 敬 ,  濱田 恭好
出願人/特許権者： 日産化学工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-235026
公開番号（公開出願番号）：特開平6-199515
出願日： 1993年09月21日
公開日（公表日）： 1994年07月19日
要約：

【要約】【目的】 pHが2〜5であり、粒子径が4〜30mμである安定な酸性シリカゾルの製造法を提供する事を目的とする。【構成】 安定な酸性シリカゾルは下記(a)、(b)及び(c)工程より成ることを特徴とする。(a);粒子径が4〜30mμであり、かつpHが2〜9のシリカゾルに、Al2 O3 /SiO2 モル比が0.0006を越えるが、0.004以下になるように、アルミン酸アルカリ水溶液を添加する工程、(b);上記(a)工程で得られたシリカゾルを80〜250°Cで0.5〜20時間加熱する工程、(c);上記(b)工程で得られたシリカゾルをイオン交換樹脂に接触させることにより、pH2〜5の酸性シリカゾルを生成させる工程。

請求項（抜粋）：

下記(a)、(b)及び(c)工程からなる、コロイダルシリカの粒子径が4〜30ミリミクロンであり、pHが2〜5である安定な酸性シリカゾルの製造方法。(a)コロイダルシリカの粒子径が4〜30ミリミクロンであり、かつpHが2〜9であるシリカゾルに、Al2 O3 /SiO2 モル比が0.0006を越えるが、0.004以下になるように、アルミン酸アルカリ水溶液を添加する工程、(b)上記(a)工程により得られたシリカゾルを80〜250°Cで0.5〜20時間加熱する工程、(c)上記(b)工程で得られたシリカゾルを陽イオン交換樹脂又は陽イオン交換樹脂と陰イオン交換樹脂に接触させることにより、pHが2〜5の酸性シリカゾルを生成させる工程。

IPC (2件)：

C01B 33/148 ,  C01B 33/141

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 特開昭58-110415