光ディスクの製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小池晃 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-339669
公開番号（公開出願番号）：特開平9-180281
出願日： 1995年12月26日
公開日（公表日）： 1997年07月11日
要約：

【要約】【課題】薄膜部12を構成する各薄膜11〜14を成膜する際に、何等かの原因により2分以上の間成膜作業が停止しても、製造される光磁気ディスクのエラーレートを増大させることなく高品質を実現させて製品の歩留り及び信頼性の大幅な向上を図る。【解決手段】薄膜の成膜時から継続して当該成膜時に比して100W〜500W程度の低い投入パワーによりターゲット板51とディスク基板1との間に微弱放電を発生させる。

請求項（抜粋）：

スパッタ法によりターゲット板とディスク基板との間に放電を発生させて当該ディスク基板上にターゲット材を積層させることにより各薄膜が成膜されてなる光ディスクを製造するに際して、上記各薄膜の成膜プロセスにおいて、当該各薄膜の非成膜時のうち、非成膜時間が所定時間以上となる場合に、成膜時から継続して当該成膜時に比して低い投入パワーによりターゲット板とディスク基板との間に微弱放電を発生させることを特徴とする光ディスクの製造方法。

IPC (3件)：

G11B 11/10 541 , G11B 11/10 , C23C 14/34

FI (3件)：

G11B 11/10 541 B , G11B 11/10 541 F , C23C 14/34 U

前のページに戻る