特許

J-GLOBAL ID：200903087494109577

ポジ型レジスト組成物

発明者： 漢那 慎一 ,  水谷 一良 ,  佐々木 知也
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (5件)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  濱田 百合子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-018852
公開番号（公開出願番号）：特開2004-233429
出願日： 2003年01月28日
公開日（公表日）： 2004年08月19日
要約：

【課題】160nm以下、具体的にはF2エキシマレーザー光(157nm)の光源使用時に十分な透過性を示し、且つ高感度、高解像力なポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】(A)フッ素原子を有するアルカリ可溶性樹脂、(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び(C)フッ素原子及び酸の作用により分解する基を有し、酸の作用によりアルカリ水溶液中での溶解度が増大する、分子量3000以下の低分子酸分解性化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

(A)フッ素原子を有するアルカリ可溶性樹脂、 (B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び (C)フッ素原子及び酸の作用により分解する基を有し、酸の作用によりアルカリ水溶液中での溶解度が増大する、分子量3000以下の低分子酸分解性化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。

IPC (2件)：

G03F7/039 ,  H01L21/027

FI (2件)：

G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R

Fターム (10件)：

2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB41 ,  2H025CB42 ,  2H025CC20